应用范围:VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是最新研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。
产品型号 :VTC-600-3HD
安装尺寸:L1300mm× W 660mm× H 1200mm
重量:160 kg
VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是最新研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。
性能指标和基本配置 | ||||||
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主要特点 | ● 可制备多种薄膜,应用广泛 | |||||
磁控溅射头 | ● 仪器中安装有2个2英寸磁控溅射头,而且都带有水冷夹层 | |||||
载样台 | ● 载样台尺寸:φ140mm(最大可放置4"的基底) | |||||
RF/DC电源 | 此设备安装有三个溅射电源,根据客户需求可选(以下两款射频电源可任意组合使用) | |||||
真空腔体 | ● 真空腔体:φ300 mm x 300 mm H,采用不锈钢制作 | |||||
气体流量控制器 | ● 仪器内部安装有2个质量流量计,量程为:0-100sccm | |||||
真空系统 | ● 配有一套GZK-103D分子泵系统(德国制作) | |||||
薄膜测厚仪(可选) | ● 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上,可实时监测薄膜的厚度,分辨率为0.10 Å | |||||
产品尺寸 | L 1300mm× W 660mm× H 1200mm | |||||
净重 | 160 kg | |||||
使用提示 | ● 此设备为DIY设备,参数变化较大购买前请务必电话仔细沟通 | |||||
警告 | ● 注意:产品内部安装有高压元件,禁止私自拆装,带电移动机体。 | |||||
认证 | CE认证 | |||||
保修期 | 一年保修,终身技术支持。 特别提示: 1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。 2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内 点击查看售后服务承诺书。 |
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