应用范围:快速升温CVD系统RTP-1000-F3LV是专为半导体基片、太阳能电池及其它样品(尺寸可达3″ )的退火而设计,配有3路流量计和机械泵。本机采用 9KW的红外灯进行加热,最快升温速度可达 100℃/s,配有RS485 接口,可以通过控制软件在计算机上控制运行并显示温度曲线。
产品型号:RTP-1000-F3LV
炉体尺寸:760mm×330mm×530mm
炉体重量:45kg
功能特点 |
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双层Al2O3纤维钢构,无需水冷或风冷。
内炉膛表面涂有进口高温氧化铝涂层,可以提高设备的加热效率及延长仪器的使用寿命。
PID控制器 ,可以设置30段升降温程序,并设有过热保护和断偶功能。
已通过CE认证。
技术参数 | |
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安装条件 | 本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。 |
水 | 不需要 |
电 | AC220V 50Hz,必须有良好接地 |
气 | 设备腔室内需充注气体,需自备气瓶气源 |
工作台 | 尺寸600mm×600mm×700mm,承重50kg以上 |
通风装置 | 需要 |
电源 | 单相208V-240V AC 50/60Hz 9KW |
石英管 | 外径Ø110mm,内径Ø103mm,长380mm |
加热元件 | 红外灯管,直径Ø10mm,长300mm |
加热区 | 300mm |
工作温度 | 最高温度1100℃ |
控温精度 | ±0.5℃ |
最高升温速度 | RT-800℃时为50℃/s,800℃-1000℃时为10℃/s |
温控仪 | 可控硅(SCR)PID自动控制 |
真空法兰 | 不锈钢,带有水冷接口和针阀,双层高温O型圈密封,长时间在>900℃条件下运行必须采用水冷,循环水流量为0.5m3/hr |
真空度 | 10-3torr |
流量计 | 3个,量程40cc/min-400cc/min,精度4%FS |
炉体尺寸 | 760mm×330mm×530mm |
炉体重量 | 45kg |
真空混气系统尺寸 | 600mm×600mm×597mm |
真空混气系统重量 | 30kg |
可选配件 | 防腐型数字式真空显示计 |
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