实验设备

       VTC-200PV真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。本机可以对涂膜机腔室进行抽真空，使样品在完全真空的状态下进行涂膜，适用于在空气中易氧化变质的薄膜材料的使用。VTC-200PV真空旋转涂膜机工作时利用真空盘吸附的方式将样品固定在载样盘上，该设备可储存12组程序，每组程序包含6个运行阶段。不同运行阶段设备转数不同，使设备缓慢提升速度至极限速度，有利于薄膜材料在样品表面均匀成膜，且不会过多浪费，节约材料。VTC-200PV真空旋转涂膜机具有操作简单、清理方便，体积小巧等优点，主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。

性能指标和基本配置
产品名称	VTC-200PV真空旋转涂膜机
产品型号	VTC-200PV
安装条件	本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：设备配有进出水口 2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地 3、气：不需要 4、工作台：尺寸600mm×600mm×700mm，承重50kg以上 5、通风装置：需要
主要特点	1、设有12组程序，每组包含6个运行阶段，每段增减速率设置范围：100—2000rpm/s,每段时间范围：0—60s。 2、样品可采用真空吸附的方式进行固定，也可采用粘结或夹持的方式进行固定，操作简便。 3、吸盘真空度可以达到-0.08MPa。 4、使用定位工具可将样件很容易地放在中心位置，以减少偏心而造成的震动或飞片。 5、根据样件规格可以配用不同的吸盘，且更换方便简单。 6、电机采用直流无刷电机，无级调速，可靠性高，适应性强，维修与保养简单，噪音低，震动小，运转平稳，启动快速稳定，加速后运行平稳，可以保证涂层厚度的一致性和均匀性。 7、当用真空吸附方式固定样品时采用无油双杠真空泵，体积小巧、结构简单、操作容易、维护方便、不会污染环境等优点。 8、可在惰性气体气氛下进行涂层 9、可在真空状态下进行涂层，此时需要用粘接基片或夹持基片的方式对被涂基片进行固定。 10、腔体通体采用聚丙烯材质，使用寿命更长，提高耐化学腐蚀性和优异的抗应力开裂性能。 11、全英文操作系统。 12、具有开盖保护功能，当涂膜过程中或涂膜结束时打开上盖后机器立刻迅速减速直到停止. 13、控制器采用控制箱，液晶显示数值，更直观可靠。
技术参数	1、功率：350W/24V 2、转速：500rpm-6000rpm 3、时间：1s-60s 4、腔体真空度可达1Torr（VRD-8机械泵连续工作）
产品规格	尺寸：Ø250mm×290mm；重量：25kg
标准配件	1	真空吸盘	1个
	2	夹持吸盘	1个
	3	无油真空泵	1台
可选配件	VRD-16机械泵	移液器	其它尺寸的真空吸盘